a 2013

Novel method of reactive magnetron sputtering process control

JÍLEK, Mojmír; Petr VAŠINA a Radek ŽEMLIČKA

Základní údaje

Originální název

Novel method of reactive magnetron sputtering process control

Autoři

JÍLEK, Mojmír; Petr VAŠINA a Radek ŽEMLIČKA

Vydání

IVC-19/ICSS-15 and ICN+T 2013, 2013

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/13:00066349

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

reactive magnetron sputtering; process control
Změněno: 20. 9. 2013 10:35, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Novel method of control of reactive magnetron sputtering process is presented. To control reactive magnetron sputtering process the process pressure is regulated by the flow of the reactive gas (nitrogen). Oscillations of the flow of the reactive gas are determined and used as feedback to find the right overall pressure, where stoichiometric coating is deposited. To see typical process behavior, see fig. 1. Proposed method of control was used for deposition of several coatings (TiN, AlTiN, AlCrN, CrTiN, …) on industrial scale central rotating unbalanced magnetron. To achieve superior adhesion of these layers, novel cleaning method called LGD was used. These coatings were used in industrial applications. Applications results in comparison with market standard coatings will be presented along with other measurements of deposited layers (EDX, SIMS, SEM, … ).

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaV
Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev