FEKETE, Matej, Petr VAŠINA a Peter KLEIN. Evolution of discharge current in high power impulse magnetron sputtering. In Adam Pazourek, Zuzana Andršová. PAPN 2013: Book of extended abstracts. Liberec: Technical University of Liberec. s. 17-18. ISBN 978-80-7372-988-2. 2013.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Evolution of discharge current in high power impulse magnetron sputtering
Autoři FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant) a Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí).
Vydání Liberec, PAPN 2013: Book of extended abstracts, od s. 17-18, 2 s. 2013.
Nakladatel Technical University of Liberec
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)
Kód RIV RIV/00216224:14310/13:00066351
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-7372-988-2
Klíčová slova anglicky HiPIMS; discharge current; magnetron sputtering; optical emission spectroscopy
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D., učo 175085. Změněno: 20. 9. 2013 10:43.
Anotace
High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is nowadays often discussed topic. Physics of HiPIMS discharge is not completely understand yet. Even very basic characteristics of HiPIMS discharge like time resolved dependence of the cathode voltage and the discharge current are still discussed and interpreted. This research shows different regimes of time evolution of the discharge current depending on applied target voltage. Possible interpretation is presented.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
VytisknoutZobrazeno: 16. 4. 2024 18:23