F 2014

Zařízení pro měření rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku

BOČÁNEK, Luděk a Josef HUMLÍČEK

Základní údaje

Originální název

Zařízení pro měření rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku

Název anglicky

Apparatus for measuring recombinant processes in silicon epitaxial layers

Autoři

BOČÁNEK, Luděk (203 Česká republika, domácí) a Josef HUMLÍČEK (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

2014

Další údaje

Jazyk

čeština

Typ výsledku

Výsledky s právní ochranou

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/14:00073273

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

epitaxní křemíkové vrstvy; rekombinace; doba života

Klíčová slova anglicky

epitaxial silicon layers; recombination; carrier lifetime

Štítky

Změněno: 2. 4. 2015 15:01, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

Zařízení pro sledování rekombinačních procesů v epitaxních vrstvách křemíku umožňuje měřit elektrické proudy napříč strukturou. Pro měření proudů se využívá kontakt epitaxní vrstvy s polopropustnou kovovou elektrodou, přes kterou jsou nosiče excitovány světelnými pulsy vycházejícími z optického vlákna.

Anglicky

Equipment for monitoring recombination processes in the epitaxial silicon layers is designed to measure electrical currents across the structure. The contact of epitaxial layer with a semitransparent metal electrode is used to measure the current of carriers excited by light pulses from an optical fiber.

Návaznosti

TA01010078, projekt VaV
Název: Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace (Akronym: ONSEMI)
Investor: Technologická agentura ČR, Struktury SOI pro pokročilé polovodičové aplikace