Nucleation and initial growth of atomic layer deposited
titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the
effect of pretreatment by surface barrier discharge

J 2015

Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge

CAMERON, David Campbell; Richard KRUMPOLEC; Tatiana IVANOVA; Tomáš HOMOLA; Mirko ČERNÁK et al.

Základní údaje

Originální název

Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge

Autoři

CAMERON, David Campbell; Richard KRUMPOLEC ; Tatiana IVANOVA; Tomáš HOMOLA a Mirko ČERNÁK

Vydání

Applied Surface Science, North-Holland, 2015, 0169-4332

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Nizozemské království

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X

Impakt faktor

Impact factor: 3.150

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00083407

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

Atomic layer deposition; Spectroscopic ellipsometry; Quantum confinement effects; Nucleation density

Štítky

AKR, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

Změněno: 7. 4. 2016 14:45, Ing. Andrea Mikešková

Anotace

V originále

This paper reports on the use of spectroscopic ellipsometry to characterise the initial nucleation stage of the atomic layer deposition of the anatase phase of titanium dioxide on silicon substrates.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV

Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

EE2.3.30.0009, projekt VaV

Název: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci

LO1411, projekt VaV

Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

Citovat

CAMERON, David Campbell; Richard KRUMPOLEC; Tatiana IVANOVA; Tomáš HOMOLA a Mirko ČERNÁK. Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge. Applied Surface Science. North-Holland, 2015, roč. 345, August, s. 216-222. ISSN 0169-4332. Dostupné z: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135.

@article{1306376,
   author = {Cameron, David Campbell and Krumpolec, Richard and Ivanova, Tatiana and Homola, Tomáš and Černák, Mirko},
   article_number = {August},
   doi = {https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135},
   keywords = {Atomic layer deposition; Spectroscopic ellipsometry; Quantum confinement effects; Nucleation density},
   language = {eng},
   issn = {0169-4332},
   journal = {Applied Surface Science},
   title = {Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge},
   url = {http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X},
   volume = {345},
   year = {2015}
}

TY  - JOUR
ID  - 1306376
AU  - Cameron, David Campbell - Krumpolec, Richard - Ivanova, Tatiana - Homola, Tomáš - Černák, Mirko
PY  - 2015
TI  - Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge
JF  - Applied Surface Science
VL  - 345
IS  - August
SP  - 216-222
EP  - 216-222
PB  - North-Holland
SN  - 01694332
KW  - Atomic layer deposition
KW  - Spectroscopic ellipsometry
KW  - Quantum confinement effects
KW  - Nucleation density
UR  - http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X
L2  - http://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S016943321500731X
N2  - This paper reports on the use of spectroscopic ellipsometry to characterise the initial nucleation stage of the atomic layer deposition of the anatase phase of titanium dioxide on silicon substrates.
ER  -

CAMERON, David Campbell; Richard KRUMPOLEC; Tatiana IVANOVA; Tomáš HOMOLA a Mirko ČERNÁK. Nucleation and initial growth of atomic layer deposited titanium oxide determined by spectroscopic ellipsometry and the effect of pretreatment by surface barrier discharge. \textit{Applied Surface Science}. North-Holland, 2015, roč.~345, August, s.~216-222. ISSN~0169-4332. Dostupné z: https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2015.03.135.

Přehled o publikaci