a 2015

Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in a HiPIMS discharge

FEKETE, Matej, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA

Základní údaje

Originální název

Influence of pulse off time on temporal evolution of sputtered species densities in a HiPIMS discharge

Autoři

FEKETE, Matej (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

International Conference on Phenomena in Ionized Gases, 2015

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Rumunsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00080967

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

HiPIMS; OES; titanium

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 7. 12. 2015 11:03, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.

Anotace

V originále

Number densities of sputtered Ti atoms and ions in their ground levels were determined by developed technique based on effective branching fractions. Densities were determined for single pulse,sequence of pulses and after the end of the pulse.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaV
Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaV
Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy