KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Zdeněk HUBIČKA, Martin ČADA a Petr VAŠINA. Spoke induced cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS. In 22nd International Symposium on Plasma Chemistry. 2015.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Spoke induced cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS
Autoři KLEIN, Peter (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika), Martin ČADA (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání 22nd International Symposium on Plasma Chemistry, 2015.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Belgie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00080975
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky HiPIMS; spokes; magnetron sputtering; plasma instabilities
Změnil Změnil: doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D., učo 106259. Změněno: 7. 12. 2015 11:06.
Anotace
The oscillations were observed on cathode voltage and discharge current temporal evolution in HiPIMS pulse. The frequency of the oscillations depends at given pressure only on actual value of the discharge current. Rotation of the spokes over the cathode and the frequency of the oscillations shows different trends. The oscillations are observed at conditions where at least certain critical amount of spokes emerges.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GAP205/12/0407, projekt VaVNázev: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 14. 5. 2024 21:24