D 2015

Observation of cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behaviour in HiPIMS

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA; Petr VAŠINA et al.

Základní údaje

Originální název

Observation of cathode voltage and discharge current oscillations and spoke behaviour in HiPIMS

Název česky

Pozorovanie oscilácií na katódovom napätí a výbojovom prúde a správanie sa spokov v HiPIMS

Autoři

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA a Petr VAŠINA

Vydání

1. vyd. Brno, Book of Contributed Papers, od s. 37-42, 6 s. 2015

Nakladatel

Masaryk University Brno 2015

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

elektronická verze "online"

Odkazy

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00081304

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-80-210-8053-9

Klíčová slova česky

HiPIMS; spoky; magnetrónové naprašovaní; nestability v plazmatu

Klíčová slova anglicky

HiPIMS; spokes; magnetron sputtering; plasma instabilities
Změněno: 10. 12. 2015 15:23, Mgr. Peter Klein, Ph.D.

Anotace

V originále

The oscillations were observed on cathode voltage and discharge current temporal evolution in HiPIMS pulse. The frequency of the oscillations depends at given pressure only on actual value of the discharge current. Rotation of the spokes over the cathode and the frequency of the oscillations shows different trends. The oscillations are observed at conditions where at least certain critical amount of spokes emerges.

Návaznosti

GAP205/12/0407, projekt VaV
Název: Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Porozumění hybridnímu PVD-PECVD procesu s cílem řídit růst nanostrukturovaných kompozitních vrstev
GA15-00863S, projekt VaV
Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy