J 2015

Mechanical properties of atomic layer deposited Al2O3/ZnO nanolaminates

HOMOLA, Tomáš; Vilma BURŠÍKOVÁ; Tatiana IVANOVA; Pavel SOUČEK; Philipp MAYDANNIK et al.

Základní údaje

Originální název

Mechanical properties of atomic layer deposited Al2O3/ZnO nanolaminates

Autoři

HOMOLA, Tomáš; Vilma BURŠÍKOVÁ; Tatiana IVANOVA; Pavel SOUČEK; Philipp MAYDANNIK; David Campbell CAMERON a Jürgen LACKNER

Vydání

Surface & Coatings Technology, 2015, 0257-8972

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Švýcarsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.139

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00085284

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

Nanolaminates;Multilayer;ALD;Hardness;Mechanical Properties;Zinc Oxide; Aluminium Oxide

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 22. 7. 2024 09:38, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Nanoscale structures of aluminium oxide (Al2O3) and zinc oxide (ZnO) multilayers (nanolaminates) were prepared by atomic layer deposition (ALD) on silicon substrates at 120 °C. The focus of this work was to study the effects of bilayer period on mechanical properties and the effect of the ratio between the thicknesses of each material with bilayer period kept constant. We found that reduction of bilayer period led to an increase in hardness of the nanolaminates, which was explained by the Hall–Petch effect. The influence on hardness of the thickness ratio between Al2O3 and ZnO, where it increased by 50% for Al2O3/ZnO = 1:24 with bilayer period = 25 nm was observed. Progressive scratch tests revealed that the highest critical load for delamination and the highest toughness was observed for samples with Al2O3/ZnO = 24:1 with bilayer period = 25 nm.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, projekt VaV
Název: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy