RÁHEĽ, Jozef, Jan ČECH a Tomáš MORÁVEK. Striated Patterns in Coplanar Barrier Discharge. Online. In Jan Čech, Pavel Souček, Dana Skácelová, Jaroslav Hnilica. Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015, Book of Contributed Papers. 1st edition. Brno: Masarykova univerzita, 2015, s. 55-59. ISBN 978-80-210-8053-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Striated Patterns in Coplanar Barrier Discharge
Autoři RÁHEĽ, Jozef, Jan ČECH a Tomáš MORÁVEK.
Vydání 1st edition. Brno, Potential Application of Plasma and Nanomaterials 2015, Book of Contributed Papers, od s. 55-59, 5 s. 2015.
Nakladatel Masarykova univerzita
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání elektronická verze "online"
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8053-9
Klíčová slova anglicky dielectric barrier discharge; coplanar; atmospheric pressure; homogeneous; striations
Štítky NZ
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 17. 5. 2018 09:39.
Anotace
Atmospheric pressure rare gases of helium, neon and argon were investigated by means of high speed ICCD camera for the presence of striated structures in single pair strips geometry of coplanar dielectric barrier discharge. In helium stratification occurs over the instantaneous anode. In neon two distinct regimes of striation were observed - spatially stable diffuse over the anode, and unstable filamentary over the interelectrode gap and anode. In argon only the filamentary striation regime was observed.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 18:57