ČECH, Jan, Pavel SŤAHEL, Hana DVOŘÁKOVÁ a Mirko ČERNÁK. Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge: Influence of Gas Humidity on Plasma Parameters. Plasma Physics and Technology. 2015, roč. 2, č. 3, s. 304-307. ISSN 2336-2626.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Diffuse Coplanar Surface Barrier Discharge: Influence of Gas Humidity on Plasma Parameters
Autoři ČECH, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Pavel SŤAHEL (203 Česká republika, domácí), Hana DVOŘÁKOVÁ (203 Česká republika, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí).
Vydání Plasma Physics and Technology, 2015, 2336-2626.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/15:00085906
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky DCSBD; barrier discharge; atmospheric pressure; humidity; pattern; OES
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnil: Mgr. Jan Čech, Ph.D., učo 63843. Změněno: 2. 2. 2016 14:38.
Anotace
It was found that the working gas humidity influences substantially the parameters of diffuse coplanar surface barrier discharge. The absolute humidity of air or N2 has a strong influence on the discharge pattern and its macroscopic homogeneity. The amount of H2O in working gas influences also generated radicals and the plasma chemistry. We suggest that the humidity of working gas should be a controlled parameter of in-line atmospheric pressure plasma treatment under real industrial conditions.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 26. 4. 2024 17:36