J 2015

Optical functions of silicon from reflectance and ellipsometry on silicon-on-insulator and homoepitaxial samples

HUMLÍČEK, Josef a Jan ŠIK

Základní údaje

Originální název

Optical functions of silicon from reflectance and ellipsometry on silicon-on-insulator and homoepitaxial samples

Autoři

Vydání

Journal of Applied Physics, Melville (USA), American Institute of Physics, 2015, 0021-8979

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.101

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14740/15:00086016

Organizační jednotka

Středoevropský technologický institut

EID Scopus

Klíčová slova česky

křemík; optické funkce

Klíčová slova anglicky

silicon; optical functions

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 5. 4. 2016 13:54, Mgr. Eva Špillingová

Anotace

V originále

The optical properties of silicon have been determined from 0.2 to 6.5 eV at room temperature, using reflectance spectra of silicon-on-insulator (SOI) and ellipsometric spectra of homoepitaxial samples. Optimized Fabry-Perot-type SOI resonators exhibit high finesse even in near ultraviolet. Very high precision values of the real part of the refractive index are obtained in infrared up to a photon energy of 1.3 eV. The spectra of the extinction coefficient, based on observations of light attenuation, extend to 3.2 eV due to measurements on SOI layers as thin as 87 nm. These results allowed us to correct spectroellipsometric data on homoepitaxial samples for the presence of reduced and stabilized surface layers.

Česky

Optické vlastnosti křemíku byly určeny v oblasti od 0.2 do 6.5 eV při pokojové teplotě, z reflexních spekter struktur SOI a elipsometrických spekter homoepitaxních vzorků.Optimalizované rezonátory SOI vykazují velkou jemnost až do blízké ultrafialové oblasti. Velmi přesné hodnoty reálné části indexu lomu vycházejí v infračerveném oboru až do energie fotonu 1.3 eV. Spektra extginkčního koeficientu určená z útlumu světla pokrývají rozsah do 3.2 eV, díky tenkým vrstvám Si ve struktuře SOI s tloušťkou až 87 nm. Tyto výsledky umožňují korigovat spektroelipsometrická data na homoepitaxních vrstvách na přítomnost redukované a stabilizované povrchové vrstvy oxidu.

Návaznosti

ED1.1.00/02.0068, projekt VaV
Název: CEITEC - central european institute of technology