2015
Optical functions of silicon from reflectance and ellipsometry on silicon-on-insulator and homoepitaxial samples
HUMLÍČEK, Josef a Jan ŠIKZákladní údaje
Originální název
Optical functions of silicon from reflectance and ellipsometry on silicon-on-insulator and homoepitaxial samples
Autoři
HUMLÍČEK, Josef a Jan ŠIK
Vydání
Journal of Applied Physics, Melville (USA), American Institute of Physics, 2015, 0021-8979
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 2.101
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14740/15:00086016
Organizační jednotka
Středoevropský technologický institut
UT WoS
EID Scopus
Klíčová slova česky
křemík; optické funkce
Klíčová slova anglicky
silicon; optical functions
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 5. 4. 2016 13:54, Mgr. Eva Špillingová
V originále
The optical properties of silicon have been determined from 0.2 to 6.5 eV at room temperature, using reflectance spectra of silicon-on-insulator (SOI) and ellipsometric spectra of homoepitaxial samples. Optimized Fabry-Perot-type SOI resonators exhibit high finesse even in near ultraviolet. Very high precision values of the real part of the refractive index are obtained in infrared up to a photon energy of 1.3 eV. The spectra of the extinction coefficient, based on observations of light attenuation, extend to 3.2 eV due to measurements on SOI layers as thin as 87 nm. These results allowed us to correct spectroellipsometric data on homoepitaxial samples for the presence of reduced and stabilized surface layers.
Česky
Optické vlastnosti křemíku byly určeny v oblasti od 0.2 do 6.5 eV při pokojové teplotě, z reflexních spekter struktur SOI a elipsometrických spekter homoepitaxních vzorků.Optimalizované rezonátory SOI vykazují velkou jemnost až do blízké ultrafialové oblasti. Velmi přesné hodnoty reálné části indexu lomu vycházejí v infračerveném oboru až do energie fotonu 1.3 eV. Spektra extginkčního koeficientu určená z útlumu světla pokrývají rozsah do 3.2 eV, díky tenkým vrstvám Si ve struktuře SOI s tloušťkou až 87 nm. Tyto výsledky umožňují korigovat spektroelipsometrická data na homoepitaxních vrstvách na přítomnost redukované a stabilizované povrchové vrstvy oxidu.
Návaznosti
| ED1.1.00/02.0068, projekt VaV |
|