J 2015

XPS depth profile of plasma-activated surface of beech wood (Fagus sylvatica) and its impact on polyvinyl acetate tensile shear bond strength

KRÁL, Pavel; Jozef RÁHEĽ; Monika STUPAVSKÁ; Jan ŠRAJER; Petr KLÍMEK et al.

Základní údaje

Originální název

XPS depth profile of plasma-activated surface of beech wood (Fagus sylvatica) and its impact on polyvinyl acetate tensile shear bond strength

Autoři

KRÁL, Pavel; Jozef RÁHEĽ; Monika STUPAVSKÁ; Jan ŠRAJER; Petr KLÍMEK; Mishra Pawan KUMAR a Wimmer RUPERT

Vydání

WOOD SCIENCE AND TECHNOLOGY, NEW YORK, SPRINGER, 2015, 0043-7719

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 1.642

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/15:00086069

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

barrier discharge; atmospheric-pressure; adhesion properties; air; wettability; extractives

Štítky

Změněno: 21. 3. 2019 16:23, doc. RNDr. Jozef Ráheľ, PhD.

Anotace

V originále

High surface selectivity of atmospheric pressure plasma treatment was demonstrated experimentally by XPS depth profile measurement of plasma-activated beech wood. Wood surface activated by diffuse coplanar surface barrier discharge was sequentially sputtered by Ar+ ion beam followed by immediate XPS analysis of freshly uncovered surface. According to the assessment, less than 330 nm of sputtered material was sufficient for complete removal of all plasma-formed functional groups. For the sake of practical implications of minimal vertical extent of plasma-mediated changes, the character of tensile shear bond strength improvement of polyvinyl acetate adhesive was examined with respect to its specific mass. A constant additive character of plasma activation to the bond strength was observed within the examined range of adhesive-specific mass.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EE2.3.30.0009, projekt VaV
Název: Zaměstnáním čerstvých absolventů doktorského studia k vědecké excelenci