a 2016

Preparation of Hard Yet Moderately Ductile Mo2BC Thin Films by Pulsed-DC Magnetron Sputtering

DEBNÁROVÁ, Stanislava; Pavel SOUČEK; Petr VAŠINA; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Vilma BURŠÍKOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Preparation of Hard Yet Moderately Ductile Mo2BC Thin Films by Pulsed-DC Magnetron Sputtering

Autoři

Vydání

15th International Conference on Plasma Surface Engineering, 2016

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088161

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

Nanolaminate; Mo2BC; Mechanical properties

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 19. 9. 2016 08:55, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

A thin film deposited on the surface of a tool can substantially influence its durability and performance. The most frequently used coatings in industry are ceramic coatings with great hardness and stiffness. However, these coatings are quite brittle, which can cause the formation and spreading of cracks. To prevent the formation of cracks, the material of the film should exhibit ductile behaviour. The combination of high hardness and moderate ductility has been discovered in the nanolaminate Mo2BC. Mid frequency pulsed-DC magnetron sputtering was used to deposit thin Mo2BC films. This method was chosen, because it is relatively simple and therefore industry-friendly.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-17875S, projekt VaV
Název: Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
Investor: Grantová agentura ČR, Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy