RÁHEĽ, Jozef, Jan ČECH a Tomáš MORÁVEK. A TREATISE ON THE DIFFUSIVENESS OF DIFFUSE COPLANAR SURFACE BARRIER DISCHARGE. In Mirko Černák, Tomáš Hoder. Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers. Brno: Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků, 2016, s. 92-96. ISBN 978-80-210-8318-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název A TREATISE ON THE DIFFUSIVENESS OF DIFFUSE COPLANAR SURFACE BARRIER DISCHARGE
Autoři RÁHEĽ, Jozef (203 Česká republika, garant, domácí), Jan ČECH (203 Česká republika, domácí) a Tomáš MORÁVEK (703 Slovensko, domácí).
Vydání Brno, Hakone XV: International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistrywith joint COST TD1208 workshop Non-Equilibrium Plasmas with Liquids for Water and Surface Treatment. Book of Contributed Papers, od s. 92-96, 5 s. 2016.
Nakladatel Masarykova univerzita; Jednota českých matematiků a fyziků
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání tištěná verze "print"
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00088284
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200018
Klíčová slova anglicky coplanar DBD; diffuse DBD; DCSBD
Štítky AKR, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 26. 4. 2017 22:42.
Anotace
Various aspects of uniform appearance of diffuse coplanar surface barrier discharge are discussed, leading to the conclusion, that generated plasma should be viewed as macroscopically, not microscopically uniform. For some particular condition however, a real diffuse operation mode can be stabilized. These conditions will be presented here.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 13:16