BITTNEROVÁ, Štěpánka, Vilma BURŠÍKOVÁ a Monika STUPAVSKÁ. NITROGEN DOPED ORGANOSILICON PLASMA POLYMERS FOR BIOAPPLICATIONS. In Proceedings CECE 2016. 2016. ISBN 978-80-904959-4-4.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název NITROGEN DOPED ORGANOSILICON PLASMA POLYMERS FOR BIOAPPLICATIONS
Název česky Dusíkem dopované organosilikonové plazmové polymery pro bioaplikace
Autoři BITTNEROVÁ, Štěpánka (203 Česká republika, domácí), Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí) a Monika STUPAVSKÁ (703 Slovensko, domácí).
Vydání Proceedings CECE 2016, 2016.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00095983
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-904959-4-4
Klíčová slova česky plazmové polymery; hexamethyldisiloxan; PECVD
Klíčová slova anglicky plasma polymers; hexamethyldisiloxane; PECVD
Změnil Změnila: doc. RNDr. Vilma Buršíková, Ph.D., učo 2418. Změněno: 15. 3. 2018 10:09.
Anotace
The aim of the present work was to prepare organosilicon thin films with amine functionalities on single crystalline silicon substrates using plasma enhanced chemical 81 vapor deposition (PECVD). The film properties prospective for bioapplications (surface free energy, resistance against mechanical damage, chemical composition, i.e. the presence of primary and secondary amines) were studied.
Anotace česky
Cílem práce bylo připravit organokřemičité tenké filmy s aminovými funkčními skupinami na substrátech monokrystalického křemíku za použití plazmatické depozice chemických par (PECVD). Vlastnosti filmu jsou prospěšné pro biologické aplikace (povrchová volná energie, odolnost proti mechanickému poškození, chemické složení, tj.přítomnost primárních a sekundárních aminů).
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 27. 9. 2024 00:11