a 2016

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

SOUČEK, Pavel; Petr VAŠINA; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Jiří BURŠÍK et al.

Základní údaje

Originální název

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

Autoři

SOUČEK, Pavel; Petr VAŠINA; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Jiří BURŠÍK a Vratislav PEŘINA

Vydání

6th International Conference on Advanced Plasma Technologies (ICAPT-6), 2016

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Kambodža

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088512

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

magnetron sputterig; MoBC; nanolaminates

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 6. 1. 2017 09:11, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Current state-of- materials nowadays used as protective coatings such as TiN, TiAlN, c-BN etc. generally exhibit high hardness and high stiffness. These positive features are often accompanied by undesirable brittle deformation behaviour. To overcome this limitation a new generation of materials with high hardness coupled with moderate ductility is desired.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-17875S, projekt VaV
Název: Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
Investor: Grantová agentura ČR, Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy