a 2016

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

SOUČEK, Pavel; Petr VAŠINA; Vilma BURŠÍKOVÁ; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Jiří BURŠÍK et. al.

Základní údaje

Originální název

Pulsed-DC Magnetron Sputtering Process for Low Temperature Deposition of Hard Yet Moderately Ductile MoBC Coatings

Autoři

SOUČEK, Pavel (203 Česká republika, domácí); Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí); Vilma BURŠÍKOVÁ (203 Česká republika, garant, domácí); Lukáš ZÁBRANSKÝ (203 Česká republika, domácí); Jiří BURŠÍK (203 Česká republika) a Vratislav PEŘINA (203 Česká republika)

Vydání

6th International Conference on Advanced Plasma Technologies (ICAPT-6), 2016

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Kambodža

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/16:00088512

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

magnetron sputterig; MoBC; nanolaminates

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 6. 1. 2017 09:11, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

Current state-of- materials nowadays used as protective coatings such as TiN, TiAlN, c-BN etc. generally exhibit high hardness and high stiffness. These positive features are often accompanied by undesirable brittle deformation behaviour. To overcome this limitation a new generation of materials with high hardness coupled with moderate ductility is desired.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-17875S, projekt VaV
Název: Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
Investor: Grantová agentura ČR, Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy