VORÁČ, Jan, Petr SYNEK a Vojtěch PROCHÁZKA. Advanced Spectra Fitting. In Hoder, Cernak. 15th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE). Brno: Masaryk University. s. 172-175. ISBN 978-80-210-8318-9. 2016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Advanced Spectra Fitting
Autoři VORÁČ, Jan (203 Česká republika, garant, domácí), Petr SYNEK (203 Česká republika, domácí) a Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí).
Vydání Brno, 15th International Symposium on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry (HAKONE), od s. 172-175, 4 s. 2016.
Nakladatel Masaryk University
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání tištěná verze "print"
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00088787
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200039
Klíčová slova anglicky spectroscopy; fit; Boltzmann-plot
Štítky AKR, rivok
Změnil Změnila: Ing. Andrea Mikešková, učo 137293. Změněno: 26. 4. 2017 23:22.
Anotace
A new method of spectral fitting is presented, where population of each state is treated independently. An example evaluation of OH (A-X) spectrum obtained in a microwave plasma jet at atmospheric pressure is presented. Two vibrational bands (0,0) and (1,1) are present in the emission. It appears that each vibrational state has a different rotational temperature.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GJ16-09721Y, projekt VaVNázev: Pokročilé experimentální studium přechodných povrchových výbojů
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilé experimentální studium přechodných povrchových výbojů
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 28. 3. 2024 15:37