D 2016

Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma

BODÍK, Michal; Richard KRUMPOLEC; Dušan KOVÁČIK; Peter ŠTIFFALOVIČ; Eva MAJKOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma

Autoři

BODÍK, Michal; Richard KRUMPOLEC ORCID; Dušan KOVÁČIK; Peter ŠTIFFALOVIČ; Eva MAJKOVÁ; Radovan MIČUNEK; Nikoleta BUGÁROVÁ; Mária OMASTOVÁ a Anna ZAHORANOVÁ

Vydání

Bratislava, od s. 74-75, 2016

Nakladatel

The 23rd Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases. Bratislava: European Physical Society

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Forma vydání

paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)

Odkazy

Označené pro přenos do RIV

Ne

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

979-1-09-638902-5

Klíčová slova anglicky

graphene oxide, hydrogen plasma, atmospheric pressure, DCSBD
Změněno: 13. 3. 2018 13:33, RNDr. Richard Krumpolec, PhD.

Anotace

V originále

The non-equilibrium hydrogen plasma generated at atmospheric pressure using Diffuse Coplanar Surface Barier Discharge (DCSBD) was used as an alternative low-temperature method for reduction of Graphene Oxide (GO). GO layers were prepared by modified Hummers method and deposited on Si/SiO 2 substrate by modified Langmuir-Schaefer method. Extremely short reduction times (<5 s) in hydrogen DCSBD plasma led to the similar level of GO reduction as obtained after the commonly used thermal vacuum annealing method for 30 minutes.