BODÍK, Michal, Richard KRUMPOLEC, Dušan KOVÁČIK, Peter ŠTIFFALOVIČ, Eva MAJKOVÁ, Radovan MIČUNEK, Nikoleta BUGÁROVÁ, Mária OMASTOVÁ a Anna ZAHORANOVÁ. Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma. Bratislava: The 23rd Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases. Bratislava: European Physical Society, 2016, s. 74-75. ISBN 979-1-09-638902-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma
Autoři BODÍK, Michal, Richard KRUMPOLEC, Dušan KOVÁČIK, Peter ŠTIFFALOVIČ, Eva MAJKOVÁ, Radovan MIČUNEK, Nikoleta BUGÁROVÁ, Mária OMASTOVÁ a Anna ZAHORANOVÁ.
Vydání Bratislava, od s. 74-75, 2016.
Nakladatel The 23rd Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases. Bratislava: European Physical Society
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Slovensko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)
WWW URL
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 979-1-09-638902-5
Klíčová slova anglicky graphene oxide, hydrogen plasma, atmospheric pressure, DCSBD
Změnil Změnil: RNDr. Richard Krumpolec, PhD., učo 235947. Změněno: 13. 3. 2018 13:33.
Anotace
The non-equilibrium hydrogen plasma generated at atmospheric pressure using Diffuse Coplanar Surface Barier Discharge (DCSBD) was used as an alternative low-temperature method for reduction of Graphene Oxide (GO). GO layers were prepared by modified Hummers method and deposited on Si/SiO 2 substrate by modified Langmuir-Schaefer method. Extremely short reduction times (<5 s) in hydrogen DCSBD plasma led to the similar level of GO reduction as obtained after the commonly used thermal vacuum annealing method for 30 minutes.
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 14:58