2016
Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma
BODÍK, Michal; Richard KRUMPOLEC; Dušan KOVÁČIK; Peter ŠTIFFALOVIČ; Eva MAJKOVÁ et al.Základní údaje
Originální název
Low-temperature reduction of Graphene Oxide by atmospheric pressure hydrogen plasma
Autoři
BODÍK, Michal; Richard KRUMPOLEC ORCID; Dušan KOVÁČIK; Peter ŠTIFFALOVIČ; Eva MAJKOVÁ; Radovan MIČUNEK; Nikoleta BUGÁROVÁ; Mária OMASTOVÁ a Anna ZAHORANOVÁ
Vydání
Bratislava, od s. 74-75, 2016
Nakladatel
The 23rd Europhysics Conference on the Atomic and Molecular Physics of Ionized Gases. Bratislava: European Physical Society
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Slovensko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání
paměťový nosič (CD, DVD, flash disk)
Odkazy
Označené pro přenos do RIV
Ne
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
979-1-09-638902-5
Klíčová slova anglicky
graphene oxide, hydrogen plasma, atmospheric pressure, DCSBD
Změněno: 13. 3. 2018 13:33, RNDr. Richard Krumpolec, PhD.
Anotace
V originále
The non-equilibrium hydrogen plasma generated at atmospheric pressure using Diffuse Coplanar Surface Barier Discharge (DCSBD) was used as an alternative low-temperature method for reduction of Graphene Oxide (GO). GO layers were prepared by modified Hummers method and deposited on Si/SiO 2 substrate by modified Langmuir-Schaefer method. Extremely short reduction times (<5 s) in hydrogen DCSBD plasma led to the similar level of GO reduction as obtained after the commonly used thermal vacuum annealing method for 30 minutes.