Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS

J 2017

Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA; Marta ŠLAPANSKÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS

Autoři

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA; Marta ŠLAPANSKÁ; Miroslav ZEMÁNEK a Petr VAŠINA

Vydání

Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP Publishing LTD, 2017, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 3.939

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00094725

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

HiPIMS; voltage and current oscillations; spokes

Štítky

NZ, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

Změněno: 29. 3. 2018 23:21, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

V originále

This paper reports on the oscillations both on the cathode voltage and on the discharge current which emerged suddenly and simultaneously during a high-power impulse magnetron sputtering pulse. Detailed experiments identified the pressure and the discharge current ranges to detect these oscillations. The oscillations originated from the magnetized plasma and their frequency ranged from 225 kHz to 400 kHz depending on the experimental conditions. Simultaneous measurement of both oscillations and spokes was conducted to find mutual correlations. The oscillations always accompanied the spokes and no particular conditions to detect oscillations in the absence of spokes were found. The oscillations were not caused by the rotational motion of the spokes but emerged when a certain threshold amount of spokes was overreached.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV

Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

GA15-00863S, projekt VaV

Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace

Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace

LO1411, projekt VaV

Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy

Citovat

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA; Marta ŠLAPANSKÁ; Miroslav ZEMÁNEK a Petr VAŠINA. Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: IOP Publishing LTD, 2017, roč. 26, č. 5, s. nestránkováno, 12 s. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://doi.org/10.1088/1361-6595/aa62ee.

@article{1378966,
   author = {Klein, Peter and Hnilica, Jaroslav and Hubička, Zdeněk and Čada, Martin and Šlapanská, Marta and Zemánek, Miroslav and Vašina, Petr},
   article_location = {Bristol},
   article_number = {5},
   doi = {https://doi.org/10.1088/1361-6595/aa62ee},
   keywords = {HiPIMS; voltage and current oscillations; spokes},
   language = {eng},
   issn = {0963-0252},
   journal = {Plasma Sources Science and Technology},
   title = {Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS},
   url = {http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/aa62ee},
   volume = {26},
   year = {2017}
}

TY  - JOUR
ID  - 1378966
AU  - Klein, Peter - Hnilica, Jaroslav - Hubička, Zdeněk - Čada, Martin - Šlapanská, Marta - Zemánek, Miroslav - Vašina, Petr
PY  - 2017
TI  - Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS
JF  - Plasma Sources Science and Technology
VL  - 26
IS  - 5
SP  - nestránkováno
EP  - nestránkováno
PB  - IOP Publishing LTD
SN  - 09630252
KW  - HiPIMS
KW  - voltage and current oscillations
KW  - spokes
UR  - http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/aa62ee
L2  - http://iopscience.iop.org/article/10.1088/1361-6595/aa62ee
N2  - This paper reports on the oscillations both on the cathode voltage and on the discharge current which emerged suddenly and simultaneously during a high-power impulse magnetron sputtering pulse. Detailed experiments identified the pressure and the discharge current ranges to detect these oscillations. The oscillations originated from the magnetized plasma and their frequency ranged from 225 kHz to 400 kHz depending on the experimental conditions. Simultaneous measurement of both oscillations and spokes was conducted to find mutual correlations. The oscillations always accompanied the spokes and no particular conditions to detect oscillations in the absence of spokes were found. The oscillations were not caused by the rotational motion of the spokes but emerged when a certain threshold amount of spokes was overreached.
ER  -

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Zdeněk HUBIČKA; Martin ČADA; Marta ŠLAPANSKÁ; Miroslav ZEMÁNEK a Petr VAŠINA. Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS. \textit{Plasma Sources Science and Technology}. Bristol: IOP Publishing LTD, 2017, roč.~26, č.~5, s.~nestránkováno, 12 s. ISSN~0963-0252. Dostupné z: https://doi.org/10.1088/1361-6595/aa62ee.

Přehled o publikaci