KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Zdeněk HUBIČKA, Martin ČADA, Marta ŠLAPANSKÁ, Miroslav ZEMÁNEK a Petr VAŠINA. Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: IOP Publishing LTD, 2017, roč. 26, č. 5, s. nestránkováno, 12 s. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa62ee.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Cathode voltage and discharge current oscillations in HiPIMS
Autoři KLEIN, Peter (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Zdeněk HUBIČKA (203 Česká republika), Martin ČADA (203 Česká republika), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Česká republika, domácí), Miroslav ZEMÁNEK (203 Česká republika, domácí) a Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí).
Vydání Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP Publishing LTD, 2017, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 3.939
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094725
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa62ee
UT WoS 000398394500002
Klíčová slova anglicky HiPIMS; voltage and current oscillations; spokes
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 29. 3. 2018 23:21.
Anotace
This paper reports on the oscillations both on the cathode voltage and on the discharge current which emerged suddenly and simultaneously during a high-power impulse magnetron sputtering pulse. Detailed experiments identified the pressure and the discharge current ranges to detect these oscillations. The oscillations originated from the magnetized plasma and their frequency ranged from 225 kHz to 400 kHz depending on the experimental conditions. Simultaneous measurement of both oscillations and spokes was conducted to find mutual correlations. The oscillations always accompanied the spokes and no particular conditions to detect oscillations in the absence of spokes were found. The oscillations were not caused by the rotational motion of the spokes but emerged when a certain threshold amount of spokes was overreached.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 27. 4. 2024 11:16