DVOŘÁK, Pavel, Maroš TKÁČIK a Jiří BÉM. Probe technique for measurement of plasma potential waveform. Plasma Sources Science and Technology. Bristol: IOP Publishing, 2017, roč. 26, č. 5, s. nestránkováno, 8 s. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa6611.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Probe technique for measurement of plasma potential waveform
Název česky Metoda sondového měření průběhu potenciálu plazmatu
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Maroš TKÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Jiří BÉM (203 Česká republika, domácí).
Vydání Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP Publishing, 2017, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 3.939
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00096609
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa6611
UT WoS 000399736700001
Klíčová slova česky potenciál plazmatu; sonda
Klíčová slova anglicky plasma potential; probe
Štítky NZ, rivok
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 10. 4. 2018 22:58.
Anotace
A method for measurement of plasma potential waveforms is presented that is based on measurement with a high-impedance probe and on an electric model of the sheath around the probe. The method was verified and compared with methods that were previously used for measurement of the temporal development of plasma potential during a RF period of capacitive discharges. Sensitivity of the method to the values of required input parameters (mean plasma potential value, electron concentration and temperature) was analyzed and it was found that with a lower precision the method can be used even without the knowledge of these input parameters. Finally, plasma potential waveforms were measured in a low-pressure capacitively coupled discharge. In agreement with theoretical models, generation of higher harmonic frequencies of plasma potential and their sensitivity to electron concentration were observed.
Anotace česky
Metoda měření potenciálu plazmatu pomocí vysokoimpedanční nekompenzované sondy. Vliv stěnové vrstvy okolo sondy je počítán modelem se skokovou změnou hustoty náboje.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 17:06