DVOŘÁK, Pavel, Martina MRKVIČKOVÁ, Adam OBRUSNÍK, Kratzer JAN, Dědina JIŘÍ a Vojtěch PROCHÁZKA. Fluorescence measurement of atomic oxygen concentration in a dielectric barrier discharge. Plasma Sources Science and Technology. Bristol, England: IOP PUBLISHING LTD, 2017, roč. 26, č. 6, s. nestránkováno, 11 s. ISSN 0963-0252. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa70da.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Fluorescence measurement of atomic oxygen concentration in a dielectric barrier discharge
Název česky Fluorescenční měření koncentrace atomárního kyslíku v dielektrickém bariérovém výboji
Autoři DVOŘÁK, Pavel (203 Česká republika, garant, domácí), Martina MRKVIČKOVÁ (203 Česká republika, domácí), Adam OBRUSNÍK (203 Česká republika, domácí), Kratzer JAN (203 Česká republika), Dědina JIŘÍ (203 Česká republika) a Vojtěch PROCHÁZKA (203 Česká republika, domácí).
Vydání Plasma Sources Science and Technology, Bristol, England, IOP PUBLISHING LTD, 2017, 0963-0252.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Impakt faktor Impact factor: 3.939
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094851
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1088/1361-6595/aa70da
UT WoS 000403309700002
Klíčová slova česky Laserem indukovaná fluorescence; TALIF; atomární kyslík; O; dielektrický bariérový výboj
Klíčová slova anglicky Laser induced fluorescence; TALIF; atomic oxygen; O; dielectric barrier discharges
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 3. 4. 2018 16:19.
Anotace
Concentration of atomic oxygen was measured in a volume dielectric barrier discharge (DBD) ignited in mixtures of Ar + O2 (+ H2) at atmospheric pressure. Two-photon absorption laser induced fluorescence (TALIF) of atomic oxygen was used and this method was calibrated by TALIF of Xe in a mixture of argon and a trace of xenon. The calibration was performed at atmospheric pressure and it was shown that quenching by three-body collisions has negligible effect on the life time of excited Xe atoms. The concentration of atomic oxygen in the DBD was around 10^{21} m-3 and it was stable during the whole discharge period. The concentration did not depend much on the electric power delivered to the discharge provided that the power was sufficiently high so that the visible discharge filled the whole reactor volume. Both the addition of hydrogen or replacing of argon by helium led to a significant decrease of atomic oxygen concentration. The TALIF measurements of O concentration levels in the DBD plasma performed in this work are made use of e.g. in the field analytical chemistry. The results contribute to understanding the processes of analyte hydride preconcentration and subsequent atomization in the field of trace element analysis where DBD plasma atomizers are employed.
Anotace česky
Koncentrace atomárního kyslíku byla metodou TALIF měřena v dielektrickém bariérovém výboji iniciovaném za atmosférického tlaku ve směsích Ar + O2 (+ H2) a počítána modelem.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
GA17-04329S, projekt VaVNázev: Atomizátory hydridů pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
Investor: Grantová agentura ČR, Atomizátory hydridů pro pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
7AMB14SK204, projekt VaVNázev: Studium nerovnovážného difúzního plazmatu generovaného ve vodních parách za atmosférického tlaku optickými a laserovými metodami (Akronym: LIFOH)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium nerovnovážného difúzního plazmatu generovaného ve vodních parách za atmosférického tlaku optickými a laserovými metodami
VytisknoutZobrazeno: 22. 5. 2024 10:39