J 2017

Concentration of atomic hydrogen in a dielectric barrier discharge measured by two-photon absorption fluorescence

DVOŘÁK, Pavel; Marek TALÁBA; Adam OBRUSNÍK; Kratzer JAN; Dědina JIŘÍ et al.

Základní údaje

Originální název

Concentration of atomic hydrogen in a dielectric barrier discharge measured by two-photon absorption fluorescence

Název česky

Koncentrace atomárního vodíku v dielektrickém bariérovém výboji měřená metodou TALIF

Autoři

DVOŘÁK, Pavel; Marek TALÁBA; Adam OBRUSNÍK; Kratzer JAN a Dědina JIŘÍ

Vydání

Plasma Sources Science and Technology, Bristol, IOP PUBLISHING LTD, 2017, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Impakt faktor

Impact factor: 3.939

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00094852

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

EID Scopus

Klíčová slova česky

Laserem indukovaná fluorescence; TALIF; atomární vodík; H; dielektrický bariérový výboj

Klíčová slova anglicky

Laser induced fluorescence; TALIF; atomic hydrogen; H; dielectric barrier discharges

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 30. 3. 2018 17:54, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

ORIG CZ

V originále

Two-photon absorption laser-induced fluorescence (TALIF) was utilized for measuring the concentration of atomic hydrogen in a volume dielectric barrier discharge (DBD) ignited in mixtures of Ar, H2 and O2 at the atmospheric pressure. The method was calibrated by TALIF of krypton diluted in argon at the atmospheric pressure, proving that three-body collisions had negligible effect on quenching of excited krypton atoms. The diagnostic study was complemented with a three-dimensional numerical model of the gas flow and a zero-dimensional model of chemistry in order to better understand the reaction kinetics and identify the key pathways leading to production and destruction of atomic hydrogen. It was determined that the density of atomic hydrogen in Ar - H2 mixtures was in the order of 10^{21} m^{-3} and decreased when oxygen was added into the gas mixture. Spatially resolved measurements and simulations revealed a sharply bordered region with low atomic hydrogen concentration when oxygen was added to the gas mixture. At substoichiometric oxygen/hydrogen ratios, this H-poor region is constricted to an area close to the gas inlet and it is shown that the size of this region is not only influenced by the chemistry but also by the gas flow patterns. Experimentally, it was observed that a decrease of H2 concentration in the feeding Ar - H2 mixture lead to an increase of H production in the DBD.

Česky

TALIF měření a výpočet koncentrace atomárního vodíku v dielektrickém bariérovém výboji používaném jako atomizátor pro účely analytické chemie.

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU
Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA13-24635S, projekt VaV
Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
GA17-04329S, projekt VaV
Název: Atomizátory hydridů pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
Investor: Grantová agentura ČR, Atomizátory hydridů pro pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy