MRKVIČKOVÁ, Martina, Jozef RÁHEĽ a Pavel DVOŘÁK. TALIF measurement of atomic nitrogen concentration in a coplanar surface dielectric barrier discharge. In 12th Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics, Zlatibor, Serbia. 2017. ISBN 978-86-84539-19-1.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název TALIF measurement of atomic nitrogen concentration in a coplanar surface dielectric barrier discharge
Autoři MRKVIČKOVÁ, Martina (203 Česká republika, garant, domácí), Jozef RÁHEĽ (703 Slovensko, domácí) a Pavel DVOŘÁK (203 Česká republika, domácí).
Vydání 12th Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics, Zlatibor, Serbia, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Srbsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00094863
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-86-84539-19-1
Klíčová slova anglicky plasma diagnostics; TALIF; DBD; nitrogen
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnil: doc. Mgr. Pavel Dvořák, Ph.D., učo 16711. Změněno: 3. 10. 2017 14:04.
Anotace
Spatially and temporally resolved measurements of atomic nitrogen concentrations in a monofilamentary coplanar surface dielectric barrier discharge are presented. With growing distance from the dielectric surface, the map of atomic N undergo a qualitative change. For the distance of 0.1 mm from the surface, the area with maximum concentration is situated just inside the discharge filament. In contrast to that, in the distance of 0.2 mm, the area rich in N atoms moves avay from the discharge filament.
Návaznosti
CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MUNázev: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA13-24635S, projekt VaVNázev: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 21. 9. 2024 14:29