TALIF measurement of atomic nitrogen concentration in a coplanar surface dielectric barrier discharge

MRKVIČKOVÁ, Martina; Jozef RÁHEĽ a Pavel DVOŘÁK. TALIF measurement of atomic nitrogen concentration in a coplanar surface dielectric barrier discharge. In 12th Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics, Zlatibor, Serbia. 2017. ISBN 978-86-84539-19-1.

Základní údaje

Originální název

TALIF measurement of atomic nitrogen concentration in a coplanar surface dielectric barrier discharge

Autoři

MRKVIČKOVÁ, Martina; Jozef RÁHEĽ a Pavel DVOŘÁK

Vydání

12th Frontiers in Low Temperature Plasma Diagnostics, Zlatibor, Serbia, 2017

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Srbsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00094863

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-86-84539-19-1

Klíčová slova anglicky

plasma diagnostics; TALIF; DBD; nitrogen

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

---

Anotace

V originále

Spatially and temporally resolved measurements of atomic nitrogen concentrations in a monofilamentary coplanar surface dielectric barrier discharge are presented. With growing distance from the dielectric surface, the map of atomic N undergo a qualitative change. For the distance of 0.1 mm from the surface, the area with maximum concentration is situated just inside the discharge filament. In contrast to that, in the distance of 0.2 mm, the area rich in N atoms moves avay from the discharge filament.

---

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU	Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA13-24635S, projekt VaV	Název: Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích Investor: Grantová agentura ČR, Spektroskopické studium rekombinace povrchového náboje v dielektrických bariérových výbojích
LO1411, projekt VaV	Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus) Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy