Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers
by microstructure engineering for high frequency applications

J 2017

Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications

FALUB, Claudiu V.; Hartmut ROHRMANN; Martin BLESS; Mojmír MEDUŇA; Miguel MARIONI et al.

Základní údaje

Originální název

Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications

Název česky

Přizpůsobení měkkých magnetických vlastností rozprašovaných multivrstev pomocí inženýrství mikrostruktur pro vysokofrekvenční aplikace

Autoři

FALUB, Claudiu V.; Hartmut ROHRMANN; Martin BLESS; Mojmír MEDUŇA; Miguel MARIONI; Daniel SCHNEIDER; Jan H. RICHTER a Marco PADRUN

Vydání

AIP Advances, MELVILLE, AMER INST PHYSICS, 2017, 2158-3226

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

URL

Impakt faktor

Impact factor: 1.653

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00097338

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

feromagnetické rezonanční frekvence; On-chip induktory; rentgenový rozptyl; tenké vrstvy; drsnost; anizotropie; pásy

Klíčová slova anglicky

ferromagnetic-resonance frequency; on-chip inductors; x-ray-scattering; thin-films; roughness; anisotropy; band

Štítky

NZ, rivok

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno

Změněno: 12. 4. 2018 10:45, Ing. Nicole Zrilić

Anotace

ORIG CZ

V originále

Soft magnetic Ni78.5Fe21.5, Co91.5Ta4.5Zr4 and Fe52Co28B20 thin films laminated with SiO2, Al2O3, AlN, and Ta2O5 dielectric interlayers were deposited on 8” Si wafers using DC, pulsed DC and RF cathodes in the industrial, high-throughput Evatec LLS-EVO-II magnetron sputtering system.

Česky

Měkké magnetické tenké vrstvy Ni78.5Fe21.5, Co91.5Ta4.5Zr4 a Fe52Co28B20 vrstvené dielektrickými mezivrstvami SiO2, Al2O3, AlN a Ta2O5 byly vypěstovány na 8" Si deskách pomocí DC, pulsních DC a RF katod v průmyslovém, vysoce propustním Evatec LLS-EVO-II magnetronovém rozprašovacím systému.

Návaznosti

ED1.1.00/02.0068, projekt VaV

Název: CEITEC - central european institute of technology

LQ1601, projekt VaV

Název: CEITEC 2020 (Akronym: CEITEC2020)

Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC 2020

Citovat

FALUB, Claudiu V.; Hartmut ROHRMANN; Martin BLESS; Mojmír MEDUŇA; Miguel MARIONI; Daniel SCHNEIDER; Jan H. RICHTER a Marco PADRUN. Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications. AIP Advances. MELVILLE: AMER INST PHYSICS, 2017, roč. 7, č. 5, s. nestránkováno, 7 s. ISSN 2158-3226. Dostupné z: https://doi.org/10.1063/1.4973945.

@article{1387381,
   author = {Falub, Claudiu V. and Rohrmann, Hartmut and Bless, Martin and Meduňa, Mojmír and Marioni, Miguel and Schneider, Daniel and Richter, Jan H. and Padrun, Marco},
   article_location = {MELVILLE},
   article_number = {5},
   doi = {https://doi.org/10.1063/1.4973945},
   keywords = {ferromagnetic-resonance frequency; on-chip inductors; x-ray-scattering; thin-films; roughness; anisotropy; band},
   language = {eng},
   issn = {2158-3226},
   journal = {AIP Advances},
   title = {Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications},
   url = {http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.4973945},
   volume = {7},
   year = {2017}
}

TY  - JOUR
ID  - 1387381
AU  - Falub, Claudiu V. - Rohrmann, Hartmut - Bless, Martin - Meduňa, Mojmír - Marioni, Miguel - Schneider, Daniel - Richter, Jan H. - Padrun, Marco
PY  - 2017
TI  - Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications
JF  - AIP Advances
VL  - 7
IS  - 5
SP  - nestránkováno
EP  - nestránkováno
PB  - AMER INST PHYSICS
SN  - 21583226
KW  - ferromagnetic-resonance frequency
KW  - on-chip inductors
KW  - x-ray-scattering
KW  - thin-films
KW  - roughness
KW  - anisotropy
KW  - band
UR  - http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.4973945
L2  - http://aip.scitation.org/doi/abs/10.1063/1.4973945
N2  - Soft magnetic Ni78.5Fe21.5, Co91.5Ta4.5Zr4 and Fe52Co28B20 thin films laminated with SiO2, Al2O3, AlN, and Ta2O5 dielectric interlayers were deposited on 8” Si wafers using DC, pulsed DC and RF cathodes in the industrial, high-throughput Evatec LLS-EVO-II magnetron sputtering system.
ER  -

FALUB, Claudiu V.; Hartmut ROHRMANN; Martin BLESS; Mojmír MEDUŇA; Miguel MARIONI; Daniel SCHNEIDER; Jan H. RICHTER a Marco PADRUN. Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications. \textit{AIP Advances}. MELVILLE: AMER INST PHYSICS, 2017, roč.~7, č.~5, s.~nestránkováno, 7 s. ISSN~2158-3226. Dostupné z: https://doi.org/10.1063/1.4973945.

Přehled o publikaci