FALUB, Claudiu V., Hartmut ROHRMANN, Martin BLESS, Mojmír MEDUŇA, Miguel MARIONI, Daniel SCHNEIDER, Jan H. RICHTER a Marco PADRUN. Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications. Online. AIP Advances. MELVILLE: AMER INST PHYSICS, 2017, roč. 7, č. 5, s. nestránkováno, 7 s. ISSN 2158-3226. Dostupné z: https://dx.doi.org/10.1063/1.4973945. [citováno 2024-04-24]
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Tailoring the soft magnetic properties of sputtered multilayers by microstructure engineering for high frequency applications
Název česky Přizpůsobení měkkých magnetických vlastností rozprašovaných multivrstev pomocí inženýrství mikrostruktur pro vysokofrekvenční aplikace
Autoři FALUB, Claudiu V. (642 Rumunsko), Hartmut ROHRMANN (756 Švýcarsko), Martin BLESS (756 Švýcarsko), Mojmír MEDUŇA (203 Česká republika, garant, domácí), Miguel MARIONI (756 Švýcarsko), Daniel SCHNEIDER (756 Švýcarsko), Jan H. RICHTER (756 Švýcarsko) a Marco PADRUN (756 Švýcarsko)
Vydání AIP Advances, MELVILLE, AMER INST PHYSICS, 2017, 2158-3226.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 1.653
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00097338
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1063/1.4973945
UT WoS 000402797100281
Klíčová slova česky feromagnetické rezonanční frekvence; On-chip induktory; rentgenový rozptyl; tenké vrstvy; drsnost; anizotropie; pásy
Klíčová slova anglicky ferromagnetic-resonance frequency; on-chip inductors; x-ray-scattering; thin-films; roughness; anisotropy; band
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 12. 4. 2018 10:45.
Anotace
Soft magnetic Ni78.5Fe21.5, Co91.5Ta4.5Zr4 and Fe52Co28B20 thin films laminated with SiO2, Al2O3, AlN, and Ta2O5 dielectric interlayers were deposited on 8” Si wafers using DC, pulsed DC and RF cathodes in the industrial, high-throughput Evatec LLS-EVO-II magnetron sputtering system.
Anotace česky
Měkké magnetické tenké vrstvy Ni78.5Fe21.5, Co91.5Ta4.5Zr4 a Fe52Co28B20 vrstvené dielektrickými mezivrstvami SiO2, Al2O3, AlN a Ta2O5 byly vypěstovány na 8" Si deskách pomocí DC, pulsních DC a RF katod v průmyslovém, vysoce propustním Evatec LLS-EVO-II magnetronovém rozprašovacím systému.
Návaznosti
ED1.1.00/02.0068, projekt VaVNázev: CEITEC - central european institute of technology
LQ1601, projekt VaVNázev: CEITEC 2020 (Akronym: CEITEC2020)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC 2020
VytisknoutZobrazeno: 24. 4. 2024 12:09