KLEIN, Peter, Jaroslav HNILICA, Francis LOCKWOOD ESTRIN, Petr VAŠINA a James W. BRADLEY. Report on spoke rotation, merging and splitting in HiPIMS plasma. In 16th International Conference on Reactive Sputter Deposition. 2017. ISBN 978-80-261-0754-5.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Report on spoke rotation, merging and splitting in HiPIMS plasma
Autoři KLEIN, Peter (703 Slovensko, domácí), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Francis LOCKWOOD ESTRIN (826 Velká Británie a Severní Irsko), Petr VAŠINA (203 Česká republika, garant, domácí) a James W. BRADLEY (826 Velká Británie a Severní Irsko).
Vydání 16th International Conference on Reactive Sputter Deposition, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00095252
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-261-0754-5
Klíčová slova česky magnetrón; spoky; HiPIMS
Klíčová slova anglicky magnetron; spokes; HiPIMS
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: Mgr. Peter Klein, Ph.D., učo 269740. Změněno: 11. 12. 2017 10:04.
Anotace
The presented spoke study was performed in both non-reactive as well as reactive nitrogen HiPIMS plasma using simultaneous broadband optical screening via ICCD camera (200 ns time scale) and strip probes embedded into the niobium target. Strip probes measured actual local current delivered to the target. Spoke merging and splitting was detected by both employed methods.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 23. 9. 2024 13:55