PIJÁKOVÁ, Barbora, Milan ALBERTI a Miloš KLÍMA. Boron-based thin layers deposited by RF plasma jet with slit nozzle. In Cernak, M; Hoder, T. ALBERTI, Milan a Miloš KLÍMA. HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT. Brno: Masarykova univerzita, 2016, s. 326-329. ISBN 978-80-210-8318-9.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Boron-based thin layers deposited by RF plasma jet with slit nozzle
Název česky Tenké vrstvy na báze bóru deponované RF plazmovou štrbinovou tryskou
Autoři PIJÁKOVÁ, Barbora (703 Slovensko, garant, domácí), Milan ALBERTI (203 Česká republika, domácí) a Miloš KLÍMA (203 Česká republika, domácí).
Vydání Brno, HAKONE XV: INTERNATIONAL SYMPOSIUM ON HIGH PRESSURE LOW TEMPERATURE PLASMA CHEMISTRY: WITH JOINT COST TD1208 WORKSHOP: NON-EQUILIBRIUM PLASMAS WITH LIQUIDS FOR WATER AND SURFACE TREATMENT, od s. 326-329, 4 s. 2016.
Nakladatel Masarykova univerzita
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Stať ve sborníku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání tištěná verze "print"
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00094407
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-210-8318-9
UT WoS 000393033200078
Klíčová slova česky koeficient tření; RF plazmová tryska; trimethylester kyseliny borité
Klíčová slova anglicky friction coefficient; RF plasma jet; trimethyl borate
Štítky NZ, rivok
Příznaky Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 19. 4. 2018 09:18.
Anotace
Preparation of thin layers with low friction coefficient using RF atmospheric pressure plasma slit jet system with addition of organic precursor aerosol.
Anotace česky
Příprava tenkých vrstev s nízkým koeficientem tření pomocí systému RF atmosferických plazmových štěrbinových trysek s přídavkem aerosolu organického prekurzoru.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TE02000011, projekt VaVNázev: Centrum výzkumu povrchových úprav (Akronym: povrchovky)
Investor: Technologická agentura ČR, Research center of surface treatment
VytisknoutZobrazeno: 22. 6. 2024 18:32