a 2017

Magnetron sputtered W-B-C coatings

MIRZAEI, Saeed; Mostafa ALISHAHI; Pavel SOUČEK; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Vilma BURŠÍKOVÁ et al.

Základní údaje

Originální název

Magnetron sputtered W-B-C coatings

Autoři

MIRZAEI, Saeed; Mostafa ALISHAHI; Pavel SOUČEK; Lukáš ZÁBRANSKÝ; Vilma BURŠÍKOVÁ; Vratislav PEŘINA a Petr VAŠINA

Vydání

CEITEC PhD Retreat II, 2017

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Česká republika

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/17:00095482

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

Magnetron sputtering; hard coating; Nanoindentation
Změněno: 20. 3. 2018 14:26, doc. Mgr. Pavel Souček, Ph.D.

Anotace

V originále

In the present work, the microstructure and mechanical properties of new boron carbide family WBC thin films were studied, experimentally. A series of nanostructured W-B-C films were deposited by magnetron co-sputtering of W, B4C and C targets. The mechanical behavior of prepared films was analyzed by different nanoindentation techniques. Their composition has been analyzed by using Energy-dispersive X-ray spectroscopy (EDS) and Rutherford backscattering spectrometry (RBS). The incorporation of tungsten and carbon content in the films were in the range of 41-60.9 and 7.1-27.7 at %, respectively. It is illustrated that, as the carbon to tungsten ratio (C/W) increases, the growth of the films experiences a transition from the granular structure into porous columnar one which accompanies by initiation of cracks first in the corner then on the side of the indents. In addition, as a result of decreae in the C/W content, the hardness and reduced elastic modulus of the coatings are increasing considerably from 21.6 to 28.4 GPa and 299 to 346 GPa, respectively.

Návaznosti

GA15-17875S, projekt VaV
Název: Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
Investor: Grantová agentura ČR, Lokální mikrostrukturní změny vyvolané statickou a dynamickou indentací nanostrukturovaných a nanolaminovaných povlaků
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy