PAVLIŇÁK, David, Dušan KOVÁČIK a Mirko ČERNÁK. METHOD OF PLASMA TREATMENT OF AN INTERNAL AND/OR EXTERNAL SURFACE OF A HOLLOW ELECTRICALLY NON-CONDUCTIVE BODY AND A DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD. 2017. Patent. Číslo: EP 3085208. Název vlastníka: Masarykova univerzita. Datum registrace: 18. 12. 2014. Datum přijetí: 6. 9. 2017.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název METHOD OF PLASMA TREATMENT OF AN INTERNAL AND/OR EXTERNAL SURFACE OF A HOLLOW ELECTRICALLY NON-CONDUCTIVE BODY AND A DEVICE FOR CARRYING OUT THIS METHOD
Autoři PAVLIŇÁK, David (203 Česká republika, garant, domácí), Dušan KOVÁČIK (703 Slovensko, domácí) a Mirko ČERNÁK (703 Slovensko, domácí).
Vydání Číslo: EP 3085208, Název vlastníka: Masarykova univerzita, 2017.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Patent
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW odkaz na patent
Kód RIV RIV/00216224:14310/17:00099990
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky plasma discharge;liquid;hollow tubes
Štítky NZ, rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Ing. Nicole Zrilić, učo 240776. Změněno: 6. 4. 2018 14:45.
Anotace
A method of plasma treatment of an internal and/or external surface of a hollow electrically non-conductive body. The internal surface of the body and/or its external surface acts a layer of electrical plasma of a surface dielectric barrier discharge generated in a volume of gas by alternating or pulse voltage with an amplitude higher than 100 V from a pair of liquid electrodes formed by an internal electrically conductive liquid situated inside the body and by an external electrically conductive liquid situated outside the body. The electrical plasma is generated above the surface of the electrically conductive liquid, where in the volume of the gas forms a layer of electrical plasma forming a ring copying the shape of the surface of the body wherein the electrical resistance between the liquid electrodes is greater than 10 kOhm. The invention also is a device for carrying out the aforementioned method.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Národní program udržitelnosti I (LO)
VytisknoutZobrazeno: 24. 9. 2020 11:45