PROKEŠ, Lubomír, Pavel SŤAHEL, Radim ŽEBRÁK a Luboš ZÁPOTOCKÝ. Odbourávání organických kontaminantů ve vzdušninách použitím plazmatu. In Odpadové fórum 2018 (TVIP 2018), 6. -8. 3. 2018, Hustopeče. 2018. ISBN 978-80-85990-12-6.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Odbourávání organických kontaminantů ve vzdušninách použitím plazmatu
Název anglicky Decomposition of organic contaminants in air using plasma
Autoři PROKEŠ, Lubomír, Pavel SŤAHEL, Radim ŽEBRÁK a Luboš ZÁPOTOCKÝ.
Vydání Odpadové fórum 2018 (TVIP 2018), 6. -8. 3. 2018, Hustopeče, 2018.
Další údaje
Originální jazyk čeština
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Stát vydavatele Česká republika
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
ISBN 978-80-85990-12-6
Klíčová slova česky plasma; vzduch; odbourávání; aceton; toluen
Klíčová slova anglicky plasma; air; decomposition; acetone; toluene
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 10. 3. 2020 10:34.
Anotace
Zařízení na principu rotačního klouzavého výboje, a jeho modifikace v podobě rotujícího bariérového výboje, vyvinuté v laboratořích centra CEPLANT, umožňují odstraňovat těkavé organické látky (aceton, toluen) z objemů vzdušin řádu desítek až stovek m3/hod při nízkém tlakovém spádu.
Anotace anglicky
Devices based on rotary gliding arc and rotary barrier discharge were applied for efficient decomposition of some VOCs (acetone and toluene) in air without the production of other waste substances. This cleaning technology is advantageous for its low operating costs.
Návaznosti
ED2.1.00/03.0086, projekt VaVNázev: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
EG15_019/0004703, projekt VaVNázev: Inovativní technologie čištění vzduchu kombinací plazmochemického a biologického procesu
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 18:06