a 2018

Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering

FEKETE, Matej; Daniel LUNDIN; Katarína BERNÁTOVÁ; Peter KLEIN; Jaroslav HNILICA et al.

Základní údaje

Originální název

Titanium Atom and Ion Number Density Evolution in Reactive High Power Impulse Magnetron Sputtering

Autoři

FEKETE, Matej; Daniel LUNDIN; Katarína BERNÁTOVÁ; Peter KLEIN; Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA

Vydání

16th International Conference on Plasma Surface Engineering, 2018

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Německo

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/18:00103779

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova anglicky

density of sputtered species; reactive HiPIMS modelling; reactive HiPIMS

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 24. 9. 2018 09:18, Mgr. Matej Fekete, Ph.D.

Anotace

V originále

The hysteresis curve in R-HiPIMS generally exhibits a narrower shape compared to dcMS, or it can even be entirely suppressed, which is beneficial for high-rate deposition of stoichiometric compound films. However, the main effect behind the hysteresis suppression is not yet completely understood. We report on evolutions of titanium atom, and ion ground state densities in R-HiPIMS discharges in oxygen for constant mean power and pulse duration, when varying the repetition frequency.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy