BERNÁTOVÁ, Katarína, Matej FEKETE, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA. Space-resolved evolution of sputtered species number densities in HiPIMS and DCMS discharge. In 16th International Conference on Plasma Surface Engineering. 2018.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Space-resolved evolution of sputtered species number densities in HiPIMS and DCMS discharge
Název anglicky Space-resolved evolution of sputtered species number densities in HiPIMS and DCMS discharge
Autoři BERNÁTOVÁ, Katarína, Matej FEKETE, Peter KLEIN, Jaroslav HNILICA a Petr VAŠINA.
Vydání 16th International Conference on Plasma Surface Engineering, 2018.
Další údaje
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky HiPIMS; Ionization fraction of sputtered species; Deposition flux
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnila: Mgr. Katarína Bernátová, Ph.D., učo 408765. Změněno: 24. 9. 2018 09:43.
Anotace
Magnetron sputtering is a physical vapor deposition technique used in the whole spectrum of industrial applications; thus, it is crucial to characterize the process behavior thoroughly. The analysis of non-reactive Direct Current Magnetron Sputtering (DCMS) and High Power Impulse Magnetron Sputtering (HiPIMS) in the presented study is performed using a Quartz Crystal Monitor (QCM) and Optical Emission Spectroscopy (OES). The QCM system can be equipped with biasable grids or a gridless sensor with magnetic electron filter, and it is used to measure separately the flux of atoms and of the ionized particles impinging the substrate. A spectroscopic method utilizing self-absorption of the plasma and Effective Branching Fractions (EBF) is employed to evaluate the absolute ground state titanium atom and ion number densities. A systematical study on three discharge parameters – working pressure, duty cycle and distance from the titanium target - is presented. The study is realized at three different distances from the target – in the magnetized plasma region, between the target and the substrate and at the substrate level. The investigation is performed at a constant mean power and pulse duration. Both the titanium atom and titanium ion number densities are correlated with the overall atom and ion deposition fluxes at the substrate level, respectively.
Návaznosti
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
TJ01000157, projekt VaVNázev: Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků
Investor: Technologická agentura ČR, Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků
VytisknoutZobrazeno: 25. 4. 2024 07:15