a 2019

Study of self-organization in HiPIMS plasma, spoke merging and splitting

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Francis LOCKWOOD-ESTRIN; James BRADLEY; Petr VAŠINA et al.

Základní údaje

Originální název

Study of self-organization in HiPIMS plasma, spoke merging and splitting

Autoři

KLEIN, Peter; Jaroslav HNILICA; Francis LOCKWOOD-ESTRIN; James BRADLEY a Petr VAŠINA

Vydání

7th International Conference on Advanced Plasma Technologies, 2019

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Konferenční abstrakt

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovinsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/19:00109249

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

ISBN

978-961-290-061-8

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; HiPIMS; spokes

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 11. 5. 2020 13:17, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

High power impulse magnetron sputtering (HiPIMS) is a promising physical vapour deposition (PVD) technique, utilizing short pulses (several 10 s of microseconds) to deliver the power into the discharge. It is characterized by a very high concentration of ions in the deposition flux and it does not create macro-particles, unlike the arc deposition process. HiPIMS plasma manifests a self-organization into the ionization zones called spokes, rotating above the racetrack area of the target (the race track being the area on the target with the highest erosion induced by the sputtering) in both clockwise and anticlockwise E cross B direction depending on current density.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA19-00579S, projekt VaV
Název: Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
Investor: Grantová agentura ČR, Pokročilá diagnostika reaktivního HiPIMS plazmatu pro depozici oxidových, nitridových a sulfidových vrstev
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy