ČECH, Jan, Lukáš DOSTÁL, Miroslav ZEMÁNEK, Zdeněk NAVRÁTIL, Jiří VALENTA a Pavel SŤAHEL. Tracking the evolution of rotating electrode gliding arc discharge channels using fast-framing camera and electrical diagnostics. In 13th Frontiers in Low-Temperature Plasma Diagnostics (FLTPD 2019). 2019.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Tracking the evolution of rotating electrode gliding arc discharge channels using fast-framing camera and electrical diagnostics
Název česky Sledování vývoje klouzavého obloukového výboje s rotující elektrodou pomocí rychlé snímkovací kamery a elektrických měření
Autoři ČECH, Jan, Lukáš DOSTÁL, Miroslav ZEMÁNEK, Zdeněk NAVRÁTIL, Jiří VALENTA a Pavel SŤAHEL.
Vydání 13th Frontiers in Low-Temperature Plasma Diagnostics (FLTPD 2019), 2019.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Německo
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW Full Text
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky obloukový výboj; rotující elektrody; rychlá kamera
Klíčová slova anglicky gliding arc; rotating electrodes; fast-camera
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 10. 3. 2020 10:36.
Anotace
The properties of novel patent-protected rotating electrode gliding arc were studied using the fast framing camera and elekctrical diagnostics. The behaviour of arc channel was investigated and correlated to different discharg conditions with the elektrical measurements.
Anotace česky
Vlastnosti nového patentově chráněného klouzavého oblouku s rotující elektrodou byly studovány za použítí rychlé snímkovací kamey a elektrických měření. Chování kanálů obloukového výboje bylo vyšetřováno a korelováno k různým výbojovým podminkám a elektrických charakteristikám.
Návaznosti
EG15_019/0004703, projekt VaVNázev: Inovativní technologie čištění vzduchu kombinací plazmochemického a biologického procesu
LO1411, projekt VaVNázev: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
VytisknoutZobrazeno: 1. 9. 2024 01:31