J 2019

Numerical enhancements of the microwave resonant cavity method for plasma diagnostics

FALTÝNEK, Jan; Vít KUDRLE; Jakub TESAŘ; Martina VOLFOVÁ; Antonín TÁLSKÝ et al.

Základní údaje

Originální název

Numerical enhancements of the microwave resonant cavity method for plasma diagnostics

Autoři

FALTÝNEK, Jan; Vít KUDRLE; Jakub TESAŘ; Martina VOLFOVÁ a Antonín TÁLSKÝ

Vydání

PLASMA SOURCES SCIENCE & TECHNOLOGY, BRISTOL, IOP PUBLISHING LTD, 2019, 0963-0252

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 3.193

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/19:00107766

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

numerical model; resonator; microwave; plasma diagnostics; plasma density; discharge profile; mode stability

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 25. 3. 2020 19:44, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

Microwave resonator method is a well established and sensitive technique of plasma density measurements, especially in low pressure plasmas. The traditional Slater approximation of very small electromagnetic field perturbation is extended and corrected by a more accurate, yet relatively simple numerical model, also addressing further phenomena such as the resonator eigenmodes and the stability of the dominant mode. The presence of a discharge tube is found to be a main source of deviation from the Slater approximation. The pre-calculated numerical correction factors are directly applicable for a range of cavity and discharge tube geometries.

Návaznosti

GA18-08520S, projekt VaV
Název: Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
Investor: Grantová agentura ČR, Studium procesu nukleace dvourozměrných uhlíkových nanostruktur v mikrovlnném plazmatu
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy