k 2018

DEVELOPMENT OF ADVANCED DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE WITH FLEXIBLE CERAMIC BARRIER LAYER

KELAR, Jakub; Miroslav ZEMÁNEK; Michal PAZDERKA a Mirko ČERNÁK

Základní údaje

Originální název

DEVELOPMENT OF ADVANCED DIELECTRIC BARRIER DISCHARGE WITH FLEXIBLE CERAMIC BARRIER LAYER

Autoři

Vydání

ICOPS 2018, 45th IEEE International Conference on Plasma Science. Denver (US), 24.06.2018-28.06.2018, 2018

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Prezentace na konferencích

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ne

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Příznaky

Mezinárodní význam
Změněno: 15. 1. 2020 13:04, RNDr. Zlata Kelar Tučeková, PhD.

Anotace

V originále

Thin flexible self-supporting ceramics are new promising material structures exploitable in many applications because of their unique combination of physical and chemical properties, which can exceed the performance of polymers or glass materials. In following study, we used special ceramic barrier layer using unique properties of alumina and zirconia-based substrates. These layers are investigated as base dielectric barrier for surface dielectric barrier discharge with coplanar geometry. Special geometry of coplanar electrodes was deposited on the surface of investigated ceramic barrier layer. Oscilloscopic measurement was used to evaluate ignition voltage and power efficiency of plasma source for different ceramic materials used as flexible dielectric barrier and different distances of electrodes. A thermal camera was used to monitor plasma source surface temperature distribution and peak temperature of ceramic layer. Detection of reactive species generated in gas atmosphere used for plasma ignition as well as optical emission spectroscopy were measured to further the description of this novel dielectric barrier discharge.

Návaznosti

CZ.1.05/2.1.00/03.0086, interní kód MU
Název: CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEPLANT - Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy, 2.1 Regionální VaV centra
GA18-05478S, projekt VaV
Název: Ohebné keramické substráty s optimalizovanými elektrickými vlastnostmi
Investor: Grantová agentura ČR, Ohebné keramické substráty s optimalizovanými elektrickými vlastnostmi
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy