p 2019

Two-photon absorption laser-induced fluorescence measurement of atomic hydrogen in discharges and flames induced at atmospheric pressure

DVOŘÁK, Pavel; Martina MRKVIČKOVÁ; Marek TALÁBA; Jan SKALNÍK; Jan KRATZER et al.

Základní údaje

Originální název

Two-photon absorption laser-induced fluorescence measurement of atomic hydrogen in discharges and flames induced at atmospheric pressure

Název česky

Měření atomárního vodíku ve výbojích a plamenech pomocí fluorescence indukované dvoufotonovou absorpcí laserového záření

Autoři

DVOŘÁK, Pavel; Martina MRKVIČKOVÁ; Marek TALÁBA; Jan SKALNÍK; Jan KRATZER a Jiří DĚDINA

Vydání

Laser Aided Plasma Diagnostics 2019, 2019

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Vyžádané přednášky

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/19:00108087

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Klíčová slova česky

TALIF;vodík;plazma;plamen

Klíčová slova anglicky

TALIF;hydrogen;plasma;flame

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 16. 3. 2020 15:36, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

The methodology of TALIF measurement of atomic hydrogen and results obtained in various discharges and flames were discussed, incl. the problematics of laser-surface interaction of LIF saturation.

Česky

Přednáška se zabývala metodou TALIF atomárního vodíku a výsledky získanými touto metodou v různých výbojích a plamenech. Diskutovány byly i problémy jako interakce laseru se stěnami aparatur a částečná saturace fluorescenčního procesu.

Návaznosti

ED2.1.00/03.0086, projekt VaV
Název: Regionální VaV centrum pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
GA17-04329S, projekt VaV
Název: Atomizátory hydridů pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
Investor: Grantová agentura ČR, Atomizátory hydridů pro pro atomovou absorpční a atomovou fluorescenční spektrometrii - nové horizonty
LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy