Technologie pro depozici materiálu napařováním

HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Katarína BERNÁTOVÁ, Marta ŠLAPANSKÁ a Petr VAŠINA. Technologie pro depozici materiálu napařováním. 2019.

Základní údaje

• Originální název: Technologie pro depozici materiálu napařováním
• Název česky: Technologie pro depozici materiálu napařováním
• Název anglicky: Technology for thin film deposition by arc
• Autoři: HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Katarína BERNÁTOVÁ (703 Slovensko, domácí), Marta ŠLAPANSKÁ (203 Česká republika) a Petr VAŠINA (203 Česká republika).
• Vydání: 2019.

Další údaje

• Originální jazyk: čeština
• Typ výsledku: Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno
• Obor: 20506 Coating and films
• Stát vydavatele: Česká republika
• Utajení: není předmětem státního či obchodního tajemství
• Kód RIV: RIV/00216224:14310/19:00108409
• Organizační jednotka: Přírodovědecká fakulta
• Klíčová slova česky: napařování obloukem; depoziční proces
• Klíčová slova anglicky: arc; deposition process
• Technické parametry: V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv tlaku, proudu, magnetického pole, frekvence buzení a střídy na depoziční rychlost a tok iontů. Oblouk byl buzen stejnosměrně i pulzně. Navržená technologie je charakterizována těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 1 Pa, magnetického pole 4 A a střídy 100% a pulzní za tlaku 1 Pa, frekvenci 20 kHz a střídě 40 %.

Anotace

Navržená technologie ukazuje, že použití stejnosměrného oblouku vede ke více než dvojnásobně rychlejší depozici vrstvy v porovnání s pulzním obloukem, a tedy je proces mnohem efektivnější a méně energeticky náročný. Použitím pulzního oblouku ovšem umožňuje zvýšit tok iontů o téměř jeden řád, což vyústí k přípravě mnohem kvalitnějších deponovaných vrstev (nižší drsnosti či větší hustotě), což vyústí ve větší přidanou hodnotu daných vrstev.

Anotace anglicky

The proposed technology shows that the use of a DC arc leads to more than twice as fast layer deposition as a pulsed arc, making the process much more efficient and less energy-consuming. However, using a pulsed arc, the ion flux is increased by almost one order, resulting in higher quality layers (lower roughness or greater density), resulting in the higher added value of the layers.

Návaznosti

• TJ01000157, projekt VaV: Název: Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků

Investor: Technologická agentura ČR, Optimalizace procesu depozice průmyslových ochranných povlaků