2019
Technologie pro depozici materiálu napařováním
HNILICA, Jaroslav; Peter KLEIN; Katarína BERNÁTOVÁ; Marta ŠLAPANSKÁ; Petr VAŠINA et al.Základní údaje
Originální název
Technologie pro depozici materiálu napařováním
Název česky
Technologie pro depozici materiálu napařováním
Název anglicky
Technology for thin film deposition by arc
Autoři
Vydání
2019
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Poloprovoz, ověřená technologie, odrůda, plemeno
Obor
20506 Coating and films
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/19:00108409
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova česky
napařování obloukem; depoziční proces
Klíčová slova anglicky
arc; deposition process
Technické parametry
V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv tlaku, proudu, magnetického pole, frekvence buzení a střídy na depoziční rychlost a tok iontů.
Oblouk byl buzen stejnosměrně i pulzně. Navržená technologie je charakterizována těmito depozičními podmínkami: stejnosměrné buzení za tlaku 1 Pa, magnetického pole 4 A a střídy 100% a pulzní za tlaku 1 Pa, frekvenci 20 kHz a střídě 40 %.
Změněno: 24. 1. 2020 09:27, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.
V originále
Navržená technologie ukazuje, že použití stejnosměrného oblouku vede ke více než dvojnásobně rychlejší depozici vrstvy v porovnání s pulzním obloukem, a tedy je proces mnohem efektivnější a méně energeticky náročný. Použitím pulzního oblouku ovšem umožňuje zvýšit tok iontů o téměř jeden řád, což vyústí k přípravě mnohem kvalitnějších deponovaných vrstev (nižší drsnosti či větší hustotě), což vyústí ve větší přidanou hodnotu daných vrstev.
Anglicky
The proposed technology shows that the use of a DC arc leads to more than twice as fast layer deposition as a pulsed arc, making the process much more efficient and less energy-consuming. However, using a pulsed arc, the ion flux is increased by almost one order, resulting in higher quality layers (lower roughness or greater density), resulting in the higher added value of the layers.
Návaznosti
| TJ01000157, projekt VaV |
|