J 2020

Laser-induced crystallization of anodic TiO2 nanotube layers

SOPHA, Hanna; Inam MIRZA; Hana TURČIČOVÁ; David PAVLIŇÁK; Jan MICHALIČKA et al.

Základní údaje

Originální název

Laser-induced crystallization of anodic TiO2 nanotube layers

Autoři

SOPHA, Hanna; Inam MIRZA; Hana TURČIČOVÁ; David PAVLIŇÁK; Jan MICHALIČKA; Miloš KRBAL; Jhonatan RODRIGUEZ-PEREIRA; Luděk HROMÁDKO; Ondřej NOVÁK; Jiří MUŽÍK; Martin SMRŽ; Eva KOLÍBALOVÁ; Nathan GOODFRIEND; Nadezda M. BULGAKOVA; Tomáš MOCEK a Jan M. MACÁK

Vydání

RSC Advances, The Royal Society of Chemistry, 2020, 2046-2069

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10300 1.3 Physical sciences

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 3.361

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/20:00115758

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

EID Scopus

Klíčová slova anglicky

TiO2 nanotube layers; laser-induced crystalization

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 29. 4. 2021 16:20, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

In this study, crystallization of amorphous TiO(2)nanotube (TNT) layers upon optimized laser annealing is shown. The resulting anatase TNT layers do not show any signs of deformation or melting. The crystallinity of the laser annealed TNT layers was investigated using X-ray diffraction, Raman spectroscopy, and high-resolution transmission electron microscopy (HRTEM). The study of the (photo-)electrochemical properties showed that the laser annealed TNT layers were more defective than conventional TNT layers annealed in a muffle oven at 400 degrees C, resulting in a higher charge recombination rate and lower photocurrent response. However, a lower overpotential for hydrogen evolution reaction was observed for the laser annealed TNT layer compared to the oven annealed TNT layer.

Návaznosti

LO1411, projekt VaV
Název: Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy (Akronym: CEPLANT plus)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Rozvoj centra pro nízkonákladové plazmové a nanotechnologické povrchové úpravy
LQ1601, projekt VaV
Název: CEITEC 2020 (Akronym: CEITEC2020)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, CEITEC 2020
90103, velká výzkumná infrastruktura
Název: CEMNAT II
90110, velká výzkumná infrastruktura
Název: CzechNanoLab