J 2020

Optical spectroscopy for sputtering process characterization

BRITUN, Nikolay a Jaroslav HNILICA

Základní údaje

Originální název

Optical spectroscopy for sputtering process characterization

Autoři

BRITUN, Nikolay (56 Belgie) a Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, garant, domácí)

Vydání

Journal of Applied Physics, Melville (New York), AIP Publishing, 2020, 0021-8979

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Spojené státy

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Odkazy

Impakt faktor

Impact factor: 2.546

Kód RIV

RIV/00216224:14310/20:00114196

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

DOI

UT WoS

000539276400001

EID Scopus

2-s2.0-85089998689

Klíčová slova anglicky

magnetron sputtering; HiPIMS; spectroscopy; plasma diagnostics; sputtering process

Štítky

Příznaky

Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 29. 2. 2024 13:48, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.

Anotace

V originále

In this Tutorial, various methods of optical spectroscopy representing certain interest for magnetron discharge characterization are overviewed. The main principles, the implementation examples, and the selected results are given for each technique, accompanied by short discussions and suggestions for further reading. Both passive and active optical methods are covered, including optical absorption and laser-based techniques. The advantages and drawbacks of each diagnostic approach are critically analyzed. Special attention is devoted to the techniques extensively used by the authors in their own work, such as line ratio methods, absorption spectroscopy, interferometry, and laser-induced fluorescence.

Návaznosti

GA15-00863S, projekt VaV
Název: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
90097, velká výzkumná infrastruktura
Název: CEPLANT