2020
Optimization of TiO2 Mesoporous Photoanodes Prepared by Inkjet Printing and Low-Temperature Plasma Processing
HOMOLA, Tomáš, Zuzana ĎURAŠOVA, Masoud SHEKARGOFTAR, Pavel SOUČEK, Petr DZIK et. al.Základní údaje
Originální název
Optimization of TiO2 Mesoporous Photoanodes Prepared by Inkjet Printing and Low-Temperature Plasma Processing
Autoři
HOMOLA, Tomáš (703 Slovensko, garant, domácí), Zuzana ĎURAŠOVA (703 Slovensko), Masoud SHEKARGOFTAR (364 Írán, domácí), Pavel SOUČEK (203 Česká republika, domácí) a Petr DZIK (203 Česká republika)
Vydání
Plasma Chemistry and Plasma Processing, New York, Springer, 2020, 0272-4324
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Spojené státy
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Odkazy
Impakt faktor
Impact factor: 3.148
Kód RIV
RIV/00216224:14310/20:00114247
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
UT WoS
000534878200001
Klíčová slova anglicky
Plasma treatment; Ambient air plasma; TiO2 mesoporous photoanodes; Inkjet printing
Štítky
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 29. 2. 2024 13:52, Mgr. Marie Šípková, DiS.
Anotace
V originále
This study describes and evaluates a low-temperature method for ambient-air plasma fabrication of hybrid titania/silica nanocomposite mesoporous layers that generate and transport electrons. The mesoporous layers were prepared using wet coating with a dispersion consisting of prefabricated titania nanoparticles and polysiloxane binder, subsequently inkjet-printed and plasma-processed by diffuse coplanar surface barrier discharge, to form an almost inorganic titania/silica coating of the high specific surface. The study demonstrates approaches to optimization of the coating, using various TiO2 nanoparticles, and of the plasma processing, together with the economic significance of printing and plasma processing-an approach compatible with processes envisaged for the manufacture of flexible electronics.
Návaznosti
GJ19-14770Y, projekt VaV |
| ||
90097, velká výzkumná infrastruktura |
|