HNILICA, Jaroslav, Peter KLEIN, Petr VAŠINA, Rony SNYDERS a Nikolay BRITUN. Revisiting particle dynamics in HiPIMS discharges. II. Plasma pulse effects. Journal of Applied Physics. New York: American Institute of Physics, roč. 128, č. 4, s. 1-12. ISSN 0021-8979. doi:10.1063/5.0009380. 2020.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Revisiting particle dynamics in HiPIMS discharges. II. Plasma pulse effects
Autoři HNILICA, Jaroslav (203 Česká republika, garant, domácí), Peter KLEIN (703 Slovensko, domácí), Petr VAŠINA (203 Česká republika, domácí), Rony SNYDERS (56 Belgie) a Nikolay BRITUN (56 Belgie).
Vydání Journal of Applied Physics, New York, American Institute of Physics, 2020, 0021-8979.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele Spojené státy
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Impakt faktor Impact factor: 2.546
Kód RIV RIV/00216224:14310/20:00114257
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Doi http://dx.doi.org/10.1063/5.0009380
UT WoS 000557312900002
Klíčová slova anglicky magnetron sputtering; HiPIMS; spectroscopy; plasma diagnostics; sputtering process; LIF; AAS
Štítky rivok
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: Mgr. Marie Šípková, DiS., učo 437722. Změněno: 27. 2. 2024 15:39.
Anotace
A detailed experimental study of high power impulse magnetron sputtering discharges is performed using time-resolved ground state density mapping of the sputtered neutrals and ions. This Paper deals with the effects related to the plasma-on phase and can be considered as an extension of Paper I being published simultaneously. The influence of plasma pulse duration, pulse energy, gas pressure as well as molecular oxygen admixture on the spatial and temporal particle density evolution is examined. Special attention is given to the temporal evolution of the ionization fraction distribution of the sputtered atoms. In addition, the 2D vector maps reflecting particle propagation, sputtering, and ionization in the discharge volume are also presented and discussed, similarly to the first part of this study [J. Appl. Phys. 128, 043303 (2020)].
Návaznosti
GA15-00863S, projekt VaVNázev: Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
Investor: Grantová agentura ČR, Studium impulzních plazmatických systémů k depozici tenkých vrstev pro fotonické aplikace
90097, velká výzkumná infrastrukturaNázev: CEPLANT
VytisknoutZobrazeno: 20. 4. 2024 05:40