2020
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
ČADA, Martin; Zdeněk HUBIČKA; Jaroslav HNILICA; Peter KLEIN; Petr VAŠINA et al.Základní údaje
Originální název
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
Název česky
Zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů
Název anglicky
Device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages
Autoři
Vydání
2020
Další údaje
Jazyk
čeština
Typ výsledku
Technicky realizované výsledky (prototyp, funkční vzorek)
Obor
20506 Coating and films
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/20:00114917
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Klíčová slova anglicky
Sputtering; thin films; plasma; deposition; deposition rate; pulse package; ionization fraction
Technické parametry
V rámci optimalizace technologického postupu byl studován vliv délky pulzu, vzdálenosti mezi pulzy a počet pulzů.
Navržený funkční vzorek je charakterizován těmito depozičními podmínkami: materiál terče titan, střední výkon 1 kW, tlak 1 Pa, délka pulzu 30 us, vzdálenost mezi pulzy v balíčku 20us, počet pulzů 4, magnetické pole otevřené.
Štítky
Změněno: 16. 2. 2021 07:55, doc. Mgr. Jaroslav Hnilica, Ph.D.
V originále
V rámci řešení projektu TAČR jsme vyvinuli zařízení pro zvýšení depoziční rychlosti HiPIMSu použitím balíčků pulzů. Změřené parametry plazmatu prokázali, že zařízení je schopné zdvojnásobit depoziční rychlosti při zachování ionizačního stupně rozprášených částic.
Anglicky
As a part of the TAČR project, we have developed a device for deposition rate increase in HiPIMS using pulse packages. The measured plasma parameters showed that the device is capable to double the deposition rate while the ionization fraction of sputtered species remain the same.
Návaznosti
| TN01000038, projekt VaV |
|