2021
Organosilicon plasma polymers deposited in trimethylsilyl acetate/CH4 plasma of capacitively coupled RF glow discharge
KELAROVÁ, Štěpánka; Monika STUPAVSKÁ; Roman PŘIBYL a Vilma BURŠÍKOVÁZákladní údaje
Originální název
Organosilicon plasma polymers deposited in trimethylsilyl acetate/CH4 plasma of capacitively coupled RF glow discharge
Autoři
Vydání
Ostrava, NANOCON 2020: 12th International Conference on Nanomaterials - Research & Application, od s. 535-540, 6 s. 2021
Nakladatel
TANGER Ltd.
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Stať ve sborníku
Obor
20506 Coating and films
Stát vydavatele
Česká republika
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Forma vydání
elektronická verze "online"
Odkazy
Označené pro přenos do RIV
Ano
Kód RIV
RIV/00216224:14310/21:00119101
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
ISBN
978-80-87294-98-7
ISSN
UT WoS
EID Scopus
Klíčová slova anglicky
Trimethylsilyl acetate; PECVD; XPS; microindentation; confocal microscopy
Příznaky
Mezinárodní význam, Recenzováno
Změněno: 26. 7. 2021 12:04, Mgr. Marie Novosadová Šípková, DiS.
Anotace
V originále
Thin solid films based on organosilicon monomers are perspective in many branches of industry as well as for bioapplications. In the present study, plasma of RF capacitively coupled glow discharge in gaseous mixture of trimethylsilyl acetate (TMSA) monomer and methane was used to create SiOxCyHz coatings. This study monitors properties of resulting thin films (surface chemistry, wettability, surface structure and mechanical properties) in dependency on deposition parameters. The main subject of the presented research is the investigation of the relationship between the above-mentioned properties of prepared organosilicon coatings and the flow rate ratio of TMSA monomer and CH4 carrier gas applied during deposition process.
Návaznosti
| GA19-15240S, projekt VaV |
| ||
| LM2018097, projekt VaV |
|