KRUMPOLEC, Richard, Jianyu FENG, Jakub KELAR, Dušan KOVÁČIK, Mirko ČERNÁK, Tina TOLKE, Oliver BEIER a Andreas PFUCH. Atmospheric reducing plasma modification of PTFE for adhesion improvement. In EURADH 2021, 13th European Adhesion Conference. 2021.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Atmospheric reducing plasma modification of PTFE for adhesion improvement
Autoři KRUMPOLEC, Richard, Jianyu FENG, Jakub KELAR, Dušan KOVÁČIK, Mirko ČERNÁK, Tina TOLKE, Oliver BEIER a Andreas PFUCH.
Vydání EURADH 2021, 13th European Adhesion Conference, 2021.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Konferenční abstrakt
Stát vydavatele Francie
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
WWW URL
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
Příznaky Mezinárodní význam
Změnil Změnil: RNDr. Richard Krumpolec, PhD., učo 235947. Změněno: 29. 1. 2022 14:35.
Anotace
Polytetrafluoroethylene (PTFE) is a fluoropolymer with probably the most difficult adhesion to other types of materials because of its very low surface energy. Atmospheric pressure plasma generated by diffuse coplanar surface barrier discharge (DCSBD) [1,2] was utilized for adhesion improvement of PTFE surfaces. X-ray photoelectron spectroscopy was used for a detailed study of plasma-chemical changes on the PTFE surfaces after plasma modification in ambient air [3], pure H2 plasma, and plasma generated in H2-containing gas mixtures. As observed, plasma modification of the PTFE surface by reducing H2 – containing plasma led to completely different surface chemistry in comparison to using standard ambient air plasma. Such plasma treatment was then studied for the improvement of painting adhesion on PTFE and for adhesion improvement of glued joints of PTFE-like shell of solar tubes into plastic housings. As revealed, PTFE treated by H2 – containing plasma exhibited the best adhesion results (Table 1).
Návaznosti
LM2018097, velká výzkumná infrastrukturaNázev: Centrum výzkumu a vývoje plazmatu a nanotechnologických povrchových úprav (Akronym: CEPLANT)
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, R&D centre for plasma and nanotechnology surface modifications
VytisknoutZobrazeno: 18. 9. 2024 22:49