MUSILOVÁ, Jana a Ivan OHLÍDAL. Influence of defects of thin films on determining their thickness by the method based on white light interference. J. Phys. D: Appl. Phys. roč. 25(1992), č. 1, s. 1131-1138. ISSN 0022-3727. 1993.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Influence of defects of thin films on determining their thickness by the method based on white light interference
Název česky Vliv defektů v tenkých vrstvách na určení jejich tloušťky metodou interference bílého světla
Autoři MUSILOVÁ, Jana (203 Česká republika, garant) a Ivan OHLÍDAL (203 Česká republika).
Vydání J. Phys. D: Appl. Phys. 1993, 0022-3727.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor 10302 Condensed matter physics
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Organizační jednotka Přírodovědecká fakulta
UT WoS A1992JD92100016
Klíčová slova česky tenké vrstvy
Klíčová slova anglicky thin films
Štítky thin films
Příznaky Mezinárodní význam, Recenzováno
Změnil Změnila: prof. RNDr. Jana Musilová, CSc., učo 851. Změněno: 23. 6. 2009 22:26.
Anotace
Method of determining the thickness of a thin film by white light interference. Influence of defects.
Anotace česky
Metoda určení tloušťky tenké vrstvy pomocí interference bílého svqtla. Vliv defektů.
VytisknoutZobrazeno: 20. 4. 2024 01:22