Interface study of W-Si/Si and obliquely deposided W/Si multilayers by grazing-incidence high-resolution x-ray diffraction

JERGEL, M. a Václav HOLÝ. Interface study of W-Si/Si and obliquely deposided W/Si multilayers by grazing-incidence high-resolution x-ray diffraction. J. Phys. D: Appl. Phys. 1995, roč. 28, -, s. 258-262. ISSN 0022-3727.

Základní údaje

Originální název

Interface study of W-Si/Si and obliquely deposided W/Si multilayers by grazing-incidence high-resolution x-ray diffraction

Autoři

JERGEL, M. a Václav HOLÝ

Vydání

J. Phys. D: Appl. Phys. 1995, 0022-3727

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10302 Condensed matter physics

Stát vydavatele

Velká Británie a Severní Irsko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/95:00000018

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

---

Návaznosti

MSM 143100002, záměr

Název: Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Fyzikální vlastnosti nových materiálů a vrstevnatých struktur