1995
Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture
JANČA, Jan, P. KRYŠTOF, Karel NAVRÁTIL, Zdeněk BOCHNÍČEK, Petr NĚMEC et. al.Základní údaje
Originální název
Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture
Autoři
JANČA, Jan, P. KRYŠTOF, Karel NAVRÁTIL, Zdeněk BOCHNÍČEK a Petr NĚMEC
Vydání
Acta Physica Univesitatis Comenianae, Bratislava, 1995, 80-22306460
Další údaje
Jazyk
angličtina
Typ výsledku
Článek v odborném periodiku
Obor
10305 Fluids and plasma physics
Stát vydavatele
Slovensko
Utajení
není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV
RIV/00216224:14310/95:00000352
Organizační jednotka
Přírodovědecká fakulta
Změněno: 22. 3. 2000 16:26, prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.
Návaznosti
MSM 143100003, záměr |
|