J 1995

Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture

JANČA, Jan, P. KRYŠTOF, Karel NAVRÁTIL, Zdeněk BOCHNÍČEK, Petr NĚMEC et. al.

Základní údaje

Originální název

Deposition and characterization of organosilicon thin films from TEOS+O2 gas mixture

Autoři

JANČA, Jan, P. KRYŠTOF, Karel NAVRÁTIL, Zdeněk BOCHNÍČEK a Petr NĚMEC

Vydání

Acta Physica Univesitatis Comenianae, Bratislava, 1995, 80-22306460

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Článek v odborném periodiku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Slovensko

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Kód RIV

RIV/00216224:14310/95:00000352

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta
Změněno: 22. 3. 2000 16:26, prof. RNDr. Jan Janča, DrSc.

Návaznosti

MSM 143100003, záměr
Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek
Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek