Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA. Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures. In ICPIG XXIII. Toulouse, France: University of Toulouse, France, 1997, s. 260-261.

Základní údaje

Originální název

Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

Název česky

Vliv výboje a parametrů substrátu na PECVD ve směsi TEOS/argon

Autoři

ZAJÍČKOVÁ, Lenka; Vilma BURŠÍKOVÁ a Jan JANČA

Vydání

Toulouse, France, ICPIG XXIII, s. 260-261, 1997

Nakladatel

University of Toulouse, France

---

Další údaje

Jazyk

angličtina

Typ výsledku

Stať ve sborníku

Obor

10305 Fluids and plasma physics

Stát vydavatele

Francie

Utajení

není předmětem státního či obchodního tajemství

Označené pro přenos do RIV

Ano

Kód RIV

RIV/00216224:14310/97:00000588

Organizační jednotka

Přírodovědecká fakulta

Příznaky

Mezinárodní význam

---

Anotace

V originále

Influence of discharge and substrate parameters on PECVD of TEOS/argon mixtures

---

Návaznosti

MSM 143100003, záměr

Název: Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek Investor: Ministerstvo školství, mládeže a tělovýchovy ČR, Studium plazmochemických reakcí v neizotermickém nízkoteplotním plazmatu a jeho interakcí s povrchem pevných látek